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三星搞笑了:3nm芯片弯道超车失利连自己都不必

时间:2023-12-27 21:16:40 来源:博亿堂byt98网址登陆 点击:1次

  上一年6月份的时分,三星就表明称,自己的3nm芯片正式量产,选用的是新一代的GAAFET晶体管技能。

  而台积电的3nm,直到上一年12月份才量产,选用的仍是之前的老迈的FinFET晶体管技能。

  可见,三星抢先台积电半年,一起技能更先进,究竟咱们都以为GAAFET晶体管技能,比FinFET晶体管技能更先进。

  所以很多人以为,三星这次可能要弯道超车,用GAAFET晶体管技能,抢先台积电,抢台积电的商场,终究打败台积电。

  一年多时刻过去了,台积电的3nm手机芯片苹果A17 Pro正式推出,用于iPhone15 Pro系列上,尽管体现没有让人冷艳,体现一般般,但至少3nm工艺现已立住了,在3季度,现已为台积电贡献了6%的收入,后续会不断的增多。

  但三星的3nm芯片呢?尽管抢先半年,尽管选用更先进的GAAFET技能,但现在还没有一家手机芯片厂商运用,高通最新的骁龙8Gen3,选用的是4nm工艺,联发科的天玑9300,选用的是4nm工艺。

  最搞笑的是,三星自己的Exynos2400,竟然也不必自己的3nm工艺,运用的是上一年的4nm工艺。连三星自己都不必的工艺,你说让他人怎样用?自己都没有决心,让他人怎样有决心呢?这不是很搞笑么?

  事实上,GAAFET晶体管技能,的确比FinFET晶体管技能要好,特别是在功耗操控、发热操控上。

  咱们知道,芯片的功耗,分为两部分,一部分是动态功耗,即芯片运行时发生的功耗。

  别的一部分则是表态功耗,也称漏电功耗,即CMOS晶体管各种走漏电流发生的静态功耗,这部分与芯片的阈值电压休戚相关,其实到7nm阶段时,芯片的静态功耗,比动态功耗更高,这部分才是功耗大头。

  而GAA技能,比较于之前的FinFET技能,加到晶体管上的阈值电压变小,这样导致漏电功率也变小,然后芯片的功耗会得到较好的操控,功耗下降,那么发热也会更佳。

  但很明显,三星GAAFET技能尽管很厉害,但没能在这次的3nm芯片上弯道超车,反而成了笑话,究竟自己都不必的工艺,让他人怎样用。

  不过,近来三星又放线nm芯片的量产,然后在未来 5 年内逾越台积电和其它职业巨子!回来搜狐,检查更加多